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    半導體硅晶片潔凈廠房

    半導體硅晶片潔凈廠房

    半導體硅晶片潔凈廠房

    • 分類:其他行業
    • 發布時間:2020-10-10 13:51:14
    • 訪問量:0
    概要:
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    詳情

      近年來,隨著半導體集成電路產業的迅速發展,硅晶片潔凈廠房也逐漸增多。硅晶片潔凈廠房內個別房間對溫度、濕度及潔凈度要求相對較嚴格。由于這些房間內有敞開水車及水槽,散濕量相對較大,房間露點溫度要求相對較低,故潔凈空調設計中濕度控制,成為相對難于解決的問題。采用MAU+FFU+DCC+RDU (轉輪除濕機組)的潔凈空調方式,部分新風進行轉輪除濕處理,以滿足個別房間的濕度要求。

      從大的方面來講,光伏新能源硅晶片生產包括硅單晶棒生產和光伏新能源硅晶片生產兩大部分。

      細分為以下幾道主要工序:單晶棒生長-單晶棒裁切和檢測-外徑磨削-切片-倒角(圓邊)-研磨/研磨片檢查-蝕刻(化學蝕刻、LP-CVD+AP-CVD 等工藝)-PTA熱處理-背面損傷處理-拋光(ML粗拋、ML精拋)-洗凈-品質檢查-潔凈包裝 從單晶棒生長到外徑磨削為硅單晶棒生產工序,切片以后的流程為光伏新能源硅晶片生產工序。

      硅片加工廠房潔凈房間大致為硅片腐蝕間、硅片噴砂間、硅片背封間、背封前清洗間、背封后處理間、中間檢測間、邊拋間、貼片間、拋光間、新線清洗間、測試間、封裝間等。

      一、硅晶片潔凈廠房參數

      1、硅片加工廠房潔凈房間環境溫度要求為22℃+1℃/22℃+2℃

      2、濕度要求50%±5%

      3、潔凈度為百級~萬級的區域,控制粒徑為0.1μum

      4、潔凈度為10萬級的區域,控制粒徑為0.5μm。

      5、注意的是敞開水車及水槽,散濕量相對較大。

      二、濕度控制方案

      硅片加工廠房潔凈房間整體上采用MAU+FFU+DCC空調方案,對有敞開水車及水槽,散濕量相對較大潔凈房間,采用MAU+FFU+DCC+RDU (轉輪除濕機組)的潔凈空調方式,部分新風進行轉輪除濕處理,以滿足個別房間的濕度要求。

      三、裝修選材建議

      1、硅晶片潔凈廠房墻、頂板材一般多采用50mm厚的夾芯彩鋼板制造,其特點為美觀、剛性強。圓弧墻角、門、窗框等一般采用專用氧化鋁型材制造。

      2、地面可采用環氧自流坪地坪或高級耐磨塑料地板,有防靜電要求的,可選用防靜電型。

      3、送回風管道用熱渡鋅板制成,貼凈化保溫效果好的阻燃型PF發泡塑膠板。

      5、高效送風口用不銹鋼框架,美觀清潔,沖孔網板用烤漆鋁板,不生銹不粘塵,宜清潔。

      四、半導體硅晶片潔凈廠房裝修結論

      1、潔凈房間內大量除濕,是一個相對較難處理且耗能較大的問題,因此工藝設計上應盡量避免大量濕量散發到潔凈房間內,或者可以降低潔凈房間溫濕度要求,以便節約成本和運行節能。

      2、散濕量相對較大,房間露點溫度要求相對較低且濕度要求相對較嚴格潔凈房間,可以采用MAU+FFU+DCC+RDU ( 轉輪除濕機組)的潔凈空調方式,部分新風進行轉輪除濕處理送入房間內,相比回風冷凍除濕方案,初投資較小且運行相對節能。

      3、廠房建筑參考GB50472-2013潔凈廠房設計規范、GB50704-2011 硅太陽能電池工廠設計規范。

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